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技术参数
1. 高通量Zeiss光学系统2. 波长范围:190-900nm,可变狭缝0.2、0.5、0.8、1.2nm3. 全自动6灯转换4. 横向加热石墨炉技术,加热速率可达3000度/秒5. 三磁场塞曼扣背景,磁场方向可调,磁场强度0-1T可调,同时可选择2-磁场模式6. 可固体进样
主要特点
1.紧凑型设计,石墨炉电源内置2.采用的横向加热石墨炉技术3.*的液体和固体石墨炉分析系统4.配置3-磁场塞曼背景校正5.氢化物-石墨炉直接联用6. ZEEnit650可同时配置三磁场塞曼和氘空心阴极灯背景校正技术
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