详细摘要: 一般使用宽束的工业用KRI离子源,都会使用中和器来达到使用激发电子中和离子的目的。常用来做中和器的像是热灯丝,电浆桥,或是中空阴极。图
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-04-25 在线留言伯东贸易(深圳)有限公司
详细摘要: 一般使用宽束的工业用KRI离子源,都会使用中和器来达到使用激发电子中和离子的目的。常用来做中和器的像是热灯丝,电浆桥,或是中空阴极。图
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-04-25 在线留言详细摘要: 上海伯东代理美国进口 KRI 霍尔离子源 eH200 是霍尔离子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本设计离子源. 霍尔离子源 eH200 适用于小型真空腔内, ...
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-04-25 在线留言详细摘要: KRI Ion Source 应用领域:无栅极等离子源技术----End-Hall 离子/等离子源有栅极离子源技术----RFICP 离子源----DC 离子源...
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-04-25 在线留言详细摘要: 上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源提供中空阴极 e-Mission Hollow Cathodes 结构紧凑, 重量轻, 可以安装在离子源或真空系统的侧面, 相...
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-04-25 在线留言详细摘要: 上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源提供多个类型的低能量高密度的电子源, 从简单的热电子灯丝模式到中空阴极模式,典型应用在等离子和离子工艺中的阴极和阳极中和器, ...
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-04-25 在线留言详细摘要: RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中,射频离子源 RFICP 140 配有...
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-04-25 在线留言详细摘要: KRI 线性离子源使用标准的端部霍尔模组并使设备的需求简化, 一个低成本, 高电流和低能量的离子束可以很好的使用于 web 涂层, in-line 沉积和圆柱旋...
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-04-25 在线留言详细摘要: 尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6"放电电压 / 电流: 50-300V / 20A操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-04-25 在线留言详细摘要: 上海伯东美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RF...
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-01-17 在线留言详细摘要: 上海伯东美国进口考夫曼离子源 KDC 系列, 加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流.
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-01-17 在线留言详细摘要: 美国 KRI 霍尔离子源 eH 系列紧凑设计, 高电流低能量宽束型离子源, 提供原子等级的细微加工能力, 霍尔离子源 eH 可以有效地以纳米精度来处理薄膜及表面...
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-01-17 在线留言详细摘要: KRi 射频离子源 RFICP 220上海伯东代理美国进口 KRI 射频离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源, 适用于离子溅镀, 离子沉积和离子蚀刻. ...
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-01-17 在线留言详细摘要: 上海伯东美国 KRI 大口径射频离子源 RFICP 380, 3层栅极设计, 栅极口径 38cm, 提供离子动能 100-1200eV 宽束离子束, 套装包含离...
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-01-17 在线留言详细摘要: 上海伯东代理美国进口 KRI 霍尔离子源 eH 400 低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eH 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统, 可以控制...
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-01-17 在线留言详细摘要: 上海伯东代理美国 进口 KRI 霍尔离子源 eH 1000 高效气体利用, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合中型真空系统. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗...
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-01-17 在线留言详细摘要: 上海伯东代理美国进口 KRI 考夫曼型离子源 RFICP 100 紧凑设计, 适用于离子溅镀和离子蚀刻. 小尺寸设计但是可以输出 400 mA 离子流. 考夫曼...
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-01-17 在线留言详细摘要: 考夫曼离子源 KDC 75 包含2个阴极灯丝, 其中一个作为备用,KDC 75 提供紧密聚焦的电子束特别适合溅射镀膜. 标准配置下离子能量范围 100 至 12...
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-01-17 在线留言详细摘要: 离子源 RFICP 40 设计采用创新的栅极技术用于研发和开发应用. 离子源 RFICP 40 无需电离灯丝设计, 适用于通气气体是活性气体时的工业应用. 标准...
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-01-17 在线留言详细摘要: KDC 10 离子源低损伤, 宽束设计, 低成本等优点广泛应用在显微镜领域, 标准配置下 KDC 10 离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超...
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-01-17 在线留言详细摘要: . 离子源 KDC 40 适用于所有的离子工艺, 例如预清洗, 表面改性, 辅助镀膜, 溅射镀膜, 离子蚀刻和沉积. 离子源 KDC 40 兼容惰性或活性气体,...
产品型号:所在地:深圳市更新时间:2023-01-17 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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